昆山LED平行光曝光机采用高密度技术

昆山LED平行光曝光机采用高密度UV-LED阵列光源（365nm/385nm/405nm可选），通过准直光学系统实现平行度≤0.5°的均匀曝光。设备集成精密气浮平台，配合激光干涉仪定位系统可实现±0.5μm的重复定位精度。创新的温度控制系统采用TEC半导体制冷技术，确保LED结温波动控制在±1℃以内。光强均匀性达到±3%（@100mW/cm²），配备32区独立光度监测模块实现实时闭环调节。特殊设计的二次光学透镜组使光能利用率提升至85%以上，支持10-500μm可调曝光区域。安全系统包含UV剂量监控、紧急遮光装置和双重互锁机构，符合IEC 62471光生物安全标准。该设备特别适用于FPC柔性电路、PCB内层线路等精细图形曝光，其稳定的光强输出可使线路边缘粗糙度控制在±1μm以内，相比传统汞灯光源节能60%以上。